МЕНЮ Высокія тэхналогіі для лепшага жыцця
BY
Выбраць мову
CN RU EN
5 В, 1.5 мкм КМОП, 1 ПКК,2 металла

5 В, 1.5 мкм КМОП, 1 ПКК,2 металла

Параметр Значэнне
Характеристика процесса Количество фотолитографий, шт.        14

Проектная норма, мкм                        1.5

Подложка:                                      КЭФ4.5

Глубина N/P-кармана, мкм                  5/5

Межслойный диэлектрик:               БФСС

Межуровневый диэлектрик:               ПХО

Подзатворный SiO2, Å                        245

Длина канала: NMOS/PMOS, мкм 1.4/2.0

N LDD- стоки

шаг ПКК,мкм                                       3.4

контакты 1, мкм                           1.5*4.5

шаг металл 1, мкм                              6.0

контакты 2, мкм                            3.0*4.5

шаг металл 2, мкм                              9.5
Применение, элементная база Логические ИС малой и средней
степени интеграции с Еп до 5 В
NMOS: Vtn= 0.8 B , Usd >12 В
PMOS: Vtp= -0.8 B, Usd >12 В
Парадак, кошт і тэрміны выканання заказаў на пастаўку дробнасерыйных тавараў дадаткова ўзгадняюцца Спажыўцом са службамі маркетынгу і збыту ААТ «ІНТЭГРАЛ» - кіруючай кампаніі холдынга «ІНТЭГРАЛ»

Маркетынг , Аддзел продажаў
Тэл.: .....(+375 17) 272 3729
       ......(+375 17) 353 2257
Факс:......(+375 17) 353 2257
Адрас электроннай пошты: export@integral.by

Задать вопрос