3-5 В, 0.8 мкм КМОП, 1 ПКК (2ПКК),2 металла пл. 200 мм
Параметр | Значэнне |
---|---|
Характеристика процесса | Кол-во фотолитографий, шт. 14 (16) Проектная норма, мкм 0.8 Подложка: КЭФ4.5 или КДБ12 2 кармана Глубина N/ P карманов, мкм 4/4 Межслойный диэлектрик: SACVD SiO2 + ПХ ТЭОС, мкм 1,05 Подзатворный SiO2, Å 130 / 160 длина канала NMOS/PMOS, мкм 0.9/1.0 N и P LDD- стоки металл I Ti/AlCu / Ti /TiN шаг ПКК, мкм 1.9 контакты 1 (заполнены W), мкм 0.7 шаг по металлу 1, мкм 2.2 металл 2 /Ti/AlCu контакты 2 (заполнены W), мкм ø 0.7 шаг по металлу 2, мкм 2.4 |
Применение, элементная база | ИМС для телефонии, заказные ИМС с Uпит от 3 до 5 В NMOS: Vtn=0.6 В, Usd >10 В PMOS: Vtр=-0.7 В, Usd >10 B |
Парадак, кошт і тэрміны выканання заказаў на пастаўку дробнасерыйных тавараў дадаткова ўзгадняюцца Спажыўцом са службамі маркетынгу і збыту ААТ «ІНТЭГРАЛ» - кіруючай кампаніі холдынга «ІНТЭГРАЛ»
Маркетынг , Аддзел продажаў
Тэл.: .....(+375 17) 272 3729
......(+375 17) 353 2257
Факс:......(+375 17) 353 2257
Адрас электроннай пошты: export@integral.by
Тэл.: .....(+375 17) 272 3729
......(+375 17) 353 2257
Факс:......(+375 17) 353 2257
Адрас электроннай пошты: export@integral.by