МЕНЮ Высокія тэхналогіі для лепшага жыцця
BY
Выбраць мову
CN RU EN
1.5 В, 3.0 мкм КМОП, 1 ПКК,1 металл, несамосовмещенный затвор

1.5 В, 3.0 мкм КМОП, 1 ПКК,1 металл, несамосовмещенный затвор

Параметр Значэнне
Характеристика процесса Количество фотолитографий, шт.          9

Проектные нормы, мкм             3,0 – 5,0

Подложка:                                      КЭФ4.5

Глубина P-кармана, мкм                    6-8

Подзатворный SiO2, Å                        800

Межслойный диэлектрик              СTФСС

Длина канала: NMOS/PMOS, мкм          3

шаг ПКК, мкм                                         10

контакты, мкм                                         5

шаг по металлу, мкм                             12
Применение, элементная база Часовые ИС
малой и средней степени интеграции
с Еп до 1.5В.

NMOS:

Vtn= 0.7/0.5 B , Usd >8 В, Ic>4мА

PMOS:

Vtp= -0.7 B/-0.5, Usd >8 В, Ic>2мА
Парадак, кошт і тэрміны выканання заказаў на пастаўку дробнасерыйных тавараў дадаткова ўзгадняюцца Спажыўцом са службамі маркетынгу і збыту ААТ «ІНТЭГРАЛ» - кіруючай кампаніі холдынга «ІНТЭГРАЛ»

Маркетынг , Аддзел продажаў
Тэл.: .....(+375 17) 272 3729
       ......(+375 17) 353 2257
Факс:......(+375 17) 353 2257
Адрас электроннай пошты: export@integral.by

Задать вопрос