Биполярная технология изготовления мощных npn-транзисторов с рабочим напряжениям 1500В
| Параметр | Значэнне |
|---|---|
| Характеристика процесса | Подложка: КОФ 102-90 8 фотолитографий (контактная): База: ионная имплантация глубина, мкм 20-26 Эмиттер: диффузия, глубина, мкм 10-15 Защита p-n перехода коллектор – база: SiPOS Металлизация: алюминий 4,5 мкм Радиационная обработка для обеспечения динамики. Матирование обратной стороны Обратная сторона: напыление Ti-Ni-Ag |
| Применение, элементная база | Uкэ=1500 B Uкэ=(700-800) В Iк=(5-12) А |
Тэл.: .....(+375 17) 272 3729
......(+375 17) 353 2257
Факс:......(+375 17) 353 2257
Адрас электроннай пошты: export@integral.by