15 В,5.0 мкм КМОП, 1 ПКК, 1 металл, несамосовмещенный затвор
Параметр | Значэнне |
---|---|
Характеристика процесса |
Количество фотолитографий, шт. 9
Проектная норма, мкм 5,0
Подложка: 460 КЭФ4.5 (100)
Глубина P-кармана, мкм 10
Подзатворный SiO2, Å 950
Межслойный диэлектрик СTФСС
Длина канала: NMOS/PMOS, мкм 5/6
шаг ПКК, мкм 5.5
контакты, мкм ø 2
|
Применение, элементная база | Логические ИС малой и средней степени интеграции с Еп до 20В. NMOS: Vtn= 1.1 B, Usd >27 В PMOS: Vtp= -1.0 B, Usd>29 В |
Парадак, кошт і тэрміны выканання заказаў на пастаўку дробнасерыйных тавараў дадаткова ўзгадняюцца Спажыўцом са службамі маркетынгу і збыту ААТ «ІНТЭГРАЛ» - кіруючай кампаніі холдынга «ІНТЭГРАЛ»
Маркетынг , Аддзел продажаў
Тэл.: .....(+375 17) 272 3729
......(+375 17) 353 2257
Факс:......(+375 17) 353 2257
Адрас электроннай пошты: export@integral.by
Тэл.: .....(+375 17) 272 3729
......(+375 17) 353 2257
Факс:......(+375 17) 353 2257
Адрас электроннай пошты: export@integral.by