20 В комплементарный c изоляцией p-n переходом “Bp30С-20”
| Параметр | Значэнне |
|---|---|
| Характеристика процесса | Количество фотолитографий, шт. 12-14 Проектная норма, мкм 2.0 Подложка: 460КДБ10 (111) Скрытые слои: 6.0КЭС20/1.95КДБ210 Эпитаксиальный слой: 8КЭФ1.5 Изоляция: p-n переход Глубина p-базы, мкм 2.0 Глубина N+эмиттера, мкм 1.7 Размер эмиттера, мкм 7*7 Расстояние между транзисторами, мкм 4 Коммутация: контакты 1, мкм 3*3 шаг 1 металл, мкм 9.0 контакты 2, мкм 4*4 шаг 2 металл, мкм 12.0 |
| Применение, элементная база | Цифроаналоговые ИС малой и средней степени интеграции с Еп до 18 В
Вертикальный NPN транзистор: |
Тэл.: .....(+375 17) 272 3729
......(+375 17) 353 2257
Факс:......(+375 17) 353 2257
Адрас электроннай пошты: export@integral.by